一种基于自适应卷积核的磁共振相位图的背景场去除方法
- Affilication of Author(s):电子科学与技术学院（国家示范性微电子学院）
- Scope of patent:国内
- Patent Applicant:方金生,CZ
- Type of Patent:发明专利
- State of Patent:专利授权
- Application Number:201710300868.7
- Authorization number:201710300868.7
- Service Invention or Not:yes
- First Author:Bao Lijun
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基于双向学习三维网络的多任务相位预处理方法及系统
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