张勇
开通时间:..
最后更新时间:..
点击次数:
发表刊物:Journal of Applied Physics
第一作者:张勇
论文类型:Article
通讯作者:李成
卷号:106
期号:6
是否译文:否
发表时间:2009-09-15
上一条:Strain relaxation in SiGe layer during wet oxidation process
下一条:Temperature dependence of heat conduction in the Fermi-Pasta-Ulam- β lattice with next-nearest-neighbor coupling